TaNiS5 晶體

品名：TaNiS5 晶體

制造方法：化學氣相沉積法， Chemical Vapor Deposition （CVD）

產(chǎn)品簡介：

晶體大小：3-10nm

晶體種類：Magnetic semiconductor

純度：>99.999%

表征方法：EDS，SEM，Raman

晶體生長方式：CVD化學氣相傳輸法

應用領域：

光電器件，微電子器件，生物傳感，化學傳感等領域。