化學(xué)法單層石墨烯(氧化還原) 純度:98% 層數(shù):1-2 片層直徑:0.2-10um 厚度:1~3nm 碳含量:<87 氧含量:>7 硫含量:<1 比表面積:1000-1217m2/g 外觀: 黑色蓬松粉末 | 物理法單層石墨烯 (剝離插層法) 純度:>98wt% 層數(shù):1-2 片層直徑:5-10um 厚度:~2nm 比表面積:1000-1217m2/g 外觀:黑色蓬松粉末 |
化學(xué)法少層石墨烯(氧化還原) 純度:97% 層數(shù):3-5 片層直徑:10-20um 厚度:1~3nm 碳含量:<97 氧含量:>0.5 硫含量:<1 比表面積:360-450m2/g 外觀: 黑色蓬松粉末 | 物理法少層石墨烯(剝離插層法) 純度:>95wt% 層數(shù):1-5 片層直徑:10-50um 厚度:<5nm 比表面積:360-450m2/g 外觀:灰色蓬松粉末 |
多層石墨烯(氧化還原法) 純度:95% 層數(shù):5-10 片層直徑:5-50um 厚度:3.4~8nm 碳含量:<97 氧含量:>0.5 硫含量:<3 比表面積:<50m2/g 外觀: 黑色蓬松粉末 | 多層石墨烯(機(jī)械剝離法) 純度:95% 層數(shù):5-10 片層直徑:5-30um 片層直徑:5-30um 厚度:3.4~8nm 碳含量:<97 氧含量:>0.5 比表面積:<50m2/g |